化学镀金是一种无电沉积的镀金方法，其原理基于氧化还原反应。在化学镀金液中，含有一种还原剂，如次磷酸钠等，它能够将镀液中的金离子还原成金属金，并沉积在具有催化活性的金属表面。化学镀金不需要外接电源，操作相对简单，且能够在复杂形状的工件表面获得均匀的镀层。在电子工业中，化学镀金有着广泛的应用。在印刷电路板（PCB）的制造过程中，对于一些微小的线路和焊盘，采用化学镀金可以确保金层均匀覆盖，提高线路的导电性和可焊性。在电子元器件的引脚和连接部位，化学镀金也能提供良好的电气连接和抗氧化保护。由于化学镀金层的厚度相对较薄且均匀，非常适合电子工业中对高精度、高可靠性的要求，同时也避免了电镀过程中可能出现的边缘效应和镀层不均匀问题。
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